La científica chilena Tania Sandoval, doctora del Departamento de Ingeniería Química y Ambiental de la Universidad Técnica Federico Santa María (USM), fue distinguida por la American Vacuum Society (AVS), una de las organizaciones más influyentes del mundo en investigación científica y tecnológica.
El reconocimiento, entregado durante el simposio internacional anual de la AVS en Charlotte, Carolina del Norte, destaca la trayectoria de jóvenes investigadores que hayan completado su doctorado en un plazo máximo de siete años.
Primera mujer y latinoamericana premiada
Sandoval obtuvo el Thin Film Division Paul Holloway Young Investigator Award, convirtiéndose en la primera mujer y primera latinoamericana en lograr este galardón.
“Me siento muy honrada de haber recibido este premio porque la división de Thin Film, de la cual formo parte, tiene un grupo importante de personas haciendo investigación de muy buen nivel y desde muy temprano en su carrera. Este premio es un reconocimiento al trabajo que hemos desarrollado en el laboratorio Nanolab junto a mi equipo”, expresó la investigadora.
Agregó que este logro también representa un avance en equidad dentro de un espacio dominado históricamente por hombres de Estados Unidos y Europa. “Estoy orgullosa de posicionar a la USM a nivel internacional y demostrar que en Chile también hacemos ciencia de calidad”, señaló.
Participación destacada en el simposio
Durante el encuentro, la académica presentó la charla “Descriptor-driven analysis of inhibitors for AS-ALD processes”, donde expuso los principales avances de su investigación sobre control de superficies y deposición selectiva de materiales.
“Me da orgullo pensar que en Chile podemos estar presentes en esta plataforma internacional, que seamos escuchados y valorados, y así poder llevar el nombre de nuestra universidad a esas instancias”, comentó Sandoval.
Sobre la American Vacuum Society
La American Vacuum Society (AVS), con sede en Estados Unidos, promueve la colaboración científica entre profesionales del ámbito académico, industrial y gubernamental. Con más de 4.500 miembros en todo el mundo, la organización fomenta la investigación en áreas como síntesis de materiales, interfaces, ciencia de superficies y nanotecnología.